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平面抛光机的两个抛光要素

来源:www.cl1688.com  时间:2015-12-21  点击数:

  平面抛光机工作的时间和速度这两个抛光要素是密切相关的,与加工过程中工件所走过的路程成正比,抛光时间过长,不仅加工精度趋向稳定不再提高,甚至会因过热变形丧失精度,并使抛光效率降低。实践表明,在抛光的初始阶段,工件几何形状误差的消除和表面光洁度的改善较快,而后则逐步缓慢下来。

平面抛光机的图片

  通过平面抛光机工作原理的分析可知;抛光开始阶段因有工件的原始粗键度及几何形状误差,工件与研具接触面积较小,使磨粒压下较深。随着抛光时间增加,磨粒压下渐浅,通过工件横截表面的磨粒增多,几何形状误差很快变小而表面光洁度构改善也较快。当基本消除几何形状误差之后,工件与研具上的磨粒接触较多,此时磨粒压下深度较浅,各点切削厚度趋于均匀。抛光时间再长些,则通过工件横截面磨粒数量增多,对工件精度的改善则变得缓慢了。超过一定的抛光时间之后,磨粒钝化得更细,压下更浅,切削能力也更低了,并逐渐趋向稳定。

  对粗抛光来说,为获得较高的抛光效率,其抛光时间主要应根据磨粒的切削快慢来确定。对精抛光来说,实验曲线表明,抛光时问在1~3分钟范周,对抛光效果的改变已变缓,超过3分钟,对抛光效果的提高没有显著变化。

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